Oem High Purity 99.95% Polonè mens Tungstèn Plak Fèy Tengstèn Fèy Tengstèn Pou Endistri
Paramèt pwodwi yo
Mak | HSG |
Estanda | ASTM MB760-07; GB/T3875-83 |
Klas | W1, W2, WAL1, WAL2 |
Dansite | 19.2g/cm³ |
Pite | ≥99.95% |
Gwosè | Epesè 0.05mm min * Lajè 300mm max * L 1000mm max |
Sifas | Netwayaj nwa/alkali/ poli |
Pwen fizyon | 3260C |
Pwosesis | woule cho |
konpozisyon chimik
Konpozisyon chimik | ||||||||||
Kontni enpurte (%), ≤ | ||||||||||
Al | Ca | Fe | Mg | Mo | Ni | Si | C | N | O | |
Balans | 0.002 | 0.005 | 0.005 | 0.003 | 0.01 | 0.003 | 0.005 | 0.008 | 0.003 | 0.005 |
Dimansyon ak varyasyon admisib
Epesè | Tolerans epesè | Lajè | Tolerans Lajè | Longè | Tolerans longè | |
I | II | |||||
0.10-0.20 | ±0.02 | ±0.03 | 30-150 | ±3 | 50-400 | ±3 |
>0.20-0.30 | ±0.03 | ±0.04 | 50-200 | ±3 | 50-400 | ±3 |
>0.30-0.40 | ±0.04 | ±0.05 | 50-200 | ±3 | 50-400 | ±3 |
>0.40-0.60 | ±0.05 | ±0.06 | 50-200 | ±4 | 50-400 | ±4 |
>0.60-0.80 | ±0.07 | ±0.08 | 50-200 | ±4 | 50-400 | ±4 |
>0.8-1.0 | ±0.08 | ±0.10 | 50-200 | ±4 | 50-400 | ±4 |
>1.0-2.0 | ±0.12 | ±0.20 | 50-200 | ±5 | 50-400 | ±5 |
>2.0-3.0 | ±0.02 | ±0.30 | 50-200 | ±5 | 50-400 | ±5 |
>3.0-4.0 | ±0.03 | ±0.40 | 50-200 | ±5 | 50-400 | ±5 |
>4.0-6.0 | ±0.04 | ±0.50 | 50-150 | ±5 | 50-400 | ±5 |
Karakteristik
Segondè pwen fizyon, dansite segondè, rezistans oksidasyon tanperati ki wo, lavi sèvis ki long, rezistans a korozyon.
Tib tengstèn yo lajman itilize nan tib pwoteksyon tèrmokoupl, founo kristal safi ak founo tanperati ki wo, elatriye. Bango ka bay tib tengstèn ki gen gwo presizyon, sifas fini, gwosè dwat, ak defòmasyon tanperati ki wo.
Aplikasyon
Aplikasyon pou plak tengstèn: Yon plak tengstèn pite 99.95%
1. Konpozan rezistans chalè: plak pwotèj chalè, eleman chofaj nan founo vakyòm tanperati ki wo.
2. Sib pulverizasyon Tengstèn pou kouch vakyòm ak kouch evaporasyon.
3. Konpozan elektwonik ak semi-kondiktè.
4. Konpozan ki enplante ak yon.
5. Bato Tengstèn pou founo kristal safi ak founo vakyòm.
6. Endistri ki pa klè: Premye miray reaktè fizyon yo